一、人工智能技术方兴未艾，化工新材料或将受益于产业链配套发展
Al产业链涵盖包括基础层、技术层等多个维度，化工行业主要受益于材料端提升。Al产业链上游以智能芯片、计算设备等硬件为核心，中游依托大模型、机器学习等通用技术，下游则广泛应用于智能制造、智慧医疗、智慧城市等领域。从产业链上游角度而言，基础层硬件端涉及诸多相关化工新材料，尤其是光刻胶、冷却液、电子树脂、湿电子化学品、电子特气等半导体相关电子化学品，而在应用端随着Deepseek为代表的人工智能迅速普及，有望快速与智能手机以及便携式设备等终端应用实现结合，进而带动显示材料相关需求。
二、光刻胶——光刻工艺核心材料，半导体领域产品国产化率提升空间较大
2.1、光刻工艺核心材料，配方技术为行业核心壁垒
根据晶瑞电材招股说明书，光刻胶是利用光化学反应经光刻工艺将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上的图形转移介质，由成膜剂、光敏剂、溶剂和添加剂等主要化学品成分和其他助剂组成，被广泛应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作，是微细加工技术的关键性材料。在光刻工艺中，光刻胶被均匀涂布在硅片、玻璃和金属等不同的衬底上，经曝光、显影和蚀刻等工序将掩膜版上的图形转移到薄膜上，形成与掩膜版完全对应的几何图形。光刻胶按显示的效果，可分为正性光刻胶和负性光刻胶，如果显影时未曝光部分溶解于显影液，形成的图形与掩膜版相反，称为负性光刻胶；如果显影时曝光部分溶解于显影液，形成的图形与掩膜版相同，称为正性光刻胶。从应用领域角度划分，光刻胶主要可以分为半导体用光刻胶、平板显示用光刻胶以及PCB光刻胶。
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