掩膜版(Photomask)又称光罩、掩模版、光刻掩膜版等，是液晶显示器、半导体等制造过程中的图形“底片”转移用的高精密工具。光掩模用于下游电子元器件制造业批量生产，是下游电子元器件制造业流程衔接的关键部分，是下游产品精度和质量的决定因素之一，是产业链中不可或缺的工具，具有资本密集、技术密集的特点。
光掩模是由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构。掩膜基板又分为苏打掩膜基板和石英掩膜基板，是制作微细光掩膜图形的感光空白板。
薄膜晶体管液晶显示器(TFI)掩膜版，包括阵列(Array)掩膜版、彩色滤光片(CF)掩膜版；有源矩阵有机发光二极管显示器(AMOLED)掩膜版超扭曲向列型液晶显示器(STN)掩膜版。内嵌式触控面板(In Cell、On Cell)掩膜版；外挂式触控(OGS)掩膜版等。半导体集成电路凸块(IC-Bumping)掩膜版；集成电路代工(IC-Foundry)掩膜版；集成电路载板(IC-Substrate)掩膜版；发光二极管(IED)封装掩膜版。柔性电路板(FPC)掩膜版；高密度互连线路板(HDD)掩膜版。
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